Übersicht

In den anspruchsvollsten High-Tech-Industrien wird die Wasserreinheit nicht in Teilen pro Million, sondern in Teilen pro Billion gemessen. Selbst die kleinste Spur von gelösten Ionen, organischen Stoffen (TOC) oder Partikeln kann katastrophale Defekte in Halbleiterwafern verursachen oder pharmazeutische Arzneimittelformulierungen beeinträchtigen. Unsere Lösungen für ultrareines Wasser (UPW) wurden entwickelt, um die absolute theoretische Grenze der Wasserreinheit zu erreichen: 18,2 MΩ-cm Widerstand bei 25°C. Durch die nahtlose Integration von fortschrittlicher Doppelpass-Umkehrosmose (RO), kontinuierlicher Elektrodeionisation (EDI), UV-Oxidation und Polier-Mischbett-Technologien liefern wir eine konsistente, kompromisslose Versorgung mit UPW für Ihre kritischsten Herstellungsprozesse.

Vorteile für Ihr Unternehmen

Die Investition in ein hochmodernes UPW-System stellt sicher, dass Ihre wichtigsten Produktionsprozesse nicht durch Schwankungen der Wasserqualität gefährdet werden.

Erstens maximiert sie Ihre Produktausbeute und minimiert kostspielige Ausschussraten, insbesondere in der Halbleiterfertigung und Mikroelektronik, wo Präzision im Sub-Nanometerbereich erforderlich ist. Zweitens macht unsere chemikalienfreie EDI-Technologie die gefährliche Handhabung, Lagerung und Entsorgung von sauren und ätzenden Regeneriermitteln überflüssig, die mit dem herkömmlichen Ionenaustausch verbunden sind, was die Sicherheit am Arbeitsplatz und die Einhaltung von Umweltvorschriften drastisch verbessert. Und schließlich bieten unsere automatisierten UPW-Schleifen einen kontinuierlichen 24/7-Betrieb mit Echtzeitüberwachung von TOC und Widerstand, so dass Ihr Produktionsteam absolutes Vertrauen in seine Wasserversorgung hat.